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冠層分析儀的使用要注意這幾個細(xì)節(jié)
發(fā)布時間： 2021-06-27 點擊次數(shù)： 1538次冠層分析儀就是屬于光學(xué)法的，特點是攜帶方便，不需要進(jìn)行額外的資料處理，可以直接給出葉面積指數(shù)值，原理是在假定植物冠層內(nèi)的各元素隨機分布，依據(jù)冠層間隙度或光學(xué)特性反演葉面積指數(shù)。缺點是測量所得葉面積指數(shù)有著較大的偏差。葉片的聚集效應(yīng)越強，偏差越大。因此在測量時，一般需要用直接法校正。測量時根據(jù)果園的大小。分別設(shè)置3-5個測量點，在每個測量點再分別用方框取樣法和冠層分析法測量葉面積指數(shù)。方框取樣法是將方框隨機放在樹冠上，將方框內(nèi)的的葉片全部摘下，用葉面積儀測量框內(nèi)的葉面積，然后根據(jù)樹冠體積和栽植密度計算葉面積指數(shù)。測點的選擇與冠層分析儀方法相同。冠層分析儀是分別對應(yīng)測量天空5個范圍的散射輻射，這5個范圍的中心視天頂角分別為7°、23°、38°、53°和68°，分別與冠層上部和下部測量輻射通透密度，并根據(jù)轉(zhuǎn)換模型估算葉面積指數(shù)。在每一個測點的冠層頂部測一次，下部重復(fù)測量6-10次，冠層下方的測量在同一水平面上，且在無直接輻射的條件下進(jìn)行。為了避免光環(huán)境迅速的變化對測量結(jié)果的影響，選擇無直接輻射的條件下進(jìn)行，然后用冠層分析儀附帶的軟件對測量的資料進(jìn)一步加工以校正估值葉面積指數(shù)。
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